AOD-450小型镀膜机/高真空多靶磁控溅射镀膜机，设备主机与控制可分开或者一体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地面积小。特别适用于利用磁控溅射镀制大面积薄膜，可以做单层膜、多层膜和复合膜层。

AOD-450小型镀膜机/高真空多靶磁控溅射镀膜机介绍

高真空多靶磁控溅射镀膜机，该设备主机与控制可分开或者一体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地面积小。特别适用于利用磁控溅射镀制大面积薄膜，可以做单层膜、多层膜和复合膜层。广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。

AOD-450小型镀膜机主要参数

真空腔室：中450xH400mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氢弧焊接，前开门结构

真空系统：机械泵+分子泵(国产或进口可选);

极眼真空：优于5.0x10Pa(经烘烤除气后);

真空抽速：从大气抽至8.0x10Pa ≤ 30min ;

升降基片台：2-6英寸基片台，旋转：0-20r/min 可调，靶基距60-120mm连续在线自动可调

可加热至500°C;可选配偏压清洗功能;

磁控靶：03英寸2-4只(可升级成中4英寸靶2-3只)，兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材

溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配射频溅射电源可任选;

质量流量计：2-3路工艺气体，可根据工艺要求增加;

膜厚仪：可选配进口或国产单水冷探头膜厚仪;

控制方式：PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。