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日立高新磁控溅射器

产品时间:2023-03-15

简要描述:

日立高新磁控溅射器
采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件

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日立高新磁控溅射器MC1000

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径:60 mm

  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度:20 mm

 日立高新磁控溅射器

特点:

  • 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件

  • 可处理较厚或较大的样品(选配件)

  • 记忆功能可存储常用加工条件

规格:

日立科学仪器有限公司为您提供日立高新磁控溅射器MC1000的参数、价格、型号、原理等信息,日立高新磁控溅射器MC1000产地为日本、品牌为日立,型号为MC1000,价格为面议,更多相关信息可,公司客服电话7*24小时为您服务


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