产品时间：2023-03-15
日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜与现有机型相比分辨率提高了20％左右 (Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV) 采用污染小、高真空样品仓 运用能量过滤器(选配)，可观察到多种成分对比度*2
日本日立HITACHI超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列 的详细介绍
沿用"SU8200系列"的冷场发射电子枪*2
采用电子束在Flashing后出现的高亮度稳定区域作为稳定观察的区间，使得低加速电压条件下兼备高分辨观察和分析的佳性能
与现有机型相比分辨率提高了20％左右
(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV)
采用污染小、高真空样品仓
运用能量过滤器(选配)，可观察到多种成分对比度*2
极低着陆电压下高分辨观察日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的半导体器件，高分辨成像所设计。
新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。
