产品展示
PRODUCT DISPLAY
产品展示您现在的位置: 首页 > 产品展示 > 日本京都 > 折光仪_折射仪 >日立离子研磨装置I

日立离子研磨装置I

产品时间:2022-05-07

简要描述:

日立离子研磨装置I
混合模式:两种研磨配置
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察
平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性
高效:提高加工效率
与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间
(参考加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)

在线咨询 点击收藏

日立离子研磨装置IM4000 II



日立离子研磨装置IM4000 II 具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )混合模式带有两种研磨配置:
    断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。
    平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性。

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )高通量能提高加工效率:
        与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。
    (参考加工速率:硅元素为300微米/小时 — 加工时间减少了66%。

  • 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )可拆卸样品台装置:

    为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。


特点


  • 混合模式:两种研磨配置
    断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察
    平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性

  • 高效:提高加工效率
    与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间
    (参考加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)

  • 可拆卸式样品台:
    为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型

日立科学仪器(北京)有限公司为您提供日立离子研磨装置IM4000 II的参数、价格、型号、原理等信息,日立离子研磨装置IM4000 II产地为日本、品牌为日立,型号为IM4000 II,价格为面议,更多相关信息可,公司客服电话7*24小时为您服务


留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
联系方式
  • 电话

在线客服